[发明专利]多边形剖面中空体的制造方法及该多边形剖面中空体无效

专利信息
申请号: 200510070209.6 申请日: 2005-05-11
公开(公告)号: CN1695847A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 秋本浩;上野一裕;吉田正二 申请(专利权)人: 古河SKY株式会社
主分类号: B21K21/06 分类号: B21K21/06;B21J5/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种多边形剖面中空体的制造方法及其产品,其用于半导体或液晶的制造装置等中,可缩短操作时间,减少多余厚度,进行角部的出角成形,可将多余厚度在延伸边部时加以利用,使用相同量的坯料制造更大的产品,另外,可在相同的加压设备内将更大的产品制造成规定的尺寸。该制造方法利用锻造用压力机进行扩径及成形,在中空状坯料的外侧使用平板状上铁砧,在内侧使用平板状下铁砧,进行边部成形和角部成形。利用该方法可得到多边形剖面中空体。
搜索关键词: 多边形 剖面 中空 制造 方法
【主权项】:
1、一种多边形剖面中空体的制造方法,其利用锻造用压力机进行扩径及成形,其特征在于,在中空状坯料的外侧使用平板状上铁砧,在内侧使用平板状下铁砧,进行边部成形和角部成形。
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