[发明专利]用于检测基片上的图案的方法和装置无效
| 申请号： | 200510070150.0 | 申请日： | 2005-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1693839A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | F·皮劳德;P·塞凡特 | 申请（专利权）人： | 鲍勃斯脱股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;B32B31/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾峻峰 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种用于检测在行进的基片(2)(亦即在沉积在薄片或卷材材料上的基片)上的图案的装置(1)，所述基片是沿着一行进方向(20)行进的金属化箔片。所述装置在一壳体(3)内包括：从一第一光源(4)发出的一第一入射光束(11)，从一第二光源(5)发出的一第二入射光束(12)，一光学测量系统(10)，分别传送由基片(2)反射的反射光束(R1，R2)的一光敏传感器(13)，以及连接至一通讯口(16)的一电子装置(14)。光学测量系统(10)是焦阑的，并且第一入射光束(11)横穿一焦阑的照明系统(15)，第二入射光束(12)横穿一倾斜的照明系统(25)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检测 基片上 图案 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于检测在行进的基片上、亦即在沉积在薄片或卷材材料上的基片上的图案的装置(1)，基片沿着一行进方向(20)行进，所述装置在一壳体(3)内包括：从一第一光源(4)发出的一第一入射光束(11)，从一第二光源(5)发出的一第二入射光束(12)，一光学测量系统(10)，分别收集由基片(2)反射的反射光束(R1，R2)的一光敏传感器(13)，以及连接至一通讯口(16)的一电子装置(14)，其特征在于，光学测量系统(10)是焦阑的，并且第一入射光束(11)横穿一焦阑的照明系统(15)，第二入射光束(12)横穿一倾斜的照明系统(25)。
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