[发明专利]聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510069079.4 申请日: 2005-05-10
公开(公告)号: CN1696191A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 林哲史;矶崎孝德;大石公美子;藤田聪 申请(专利权)人: 可乐丽股份有限公司
主分类号: C08L29/04 分类号: C08L29/04;C08J5/18;B32B27/30
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法。聚乙烯醇系聚合物薄膜具有在表层A和表层B之间存在内芯层C的3层结构,在满足下述式(I)和(II)的同时,满足下述式(III)和(IV)中的至少一个:ΔnMDA/ΔnMDB=1.0~1.5(I);ΔnMDB-ΔnMDC≥0.2×10-3(II);ΔnMDA<3.0×10-3(III);0≤|FA/FC-FB/FC|≤0.1(IV);式中,ΔnMDA、ΔnMDB及ΔnMDC表示表层A、表层B及内芯层C的长度方向的双折射率,FA、FB及FC表示表层A、表层B及内芯层C的取向度。
搜索关键词: 聚乙烯醇 聚合物 薄膜 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种聚乙烯醇系聚合物薄膜,是在外侧两个表层A和表层B之间存在内芯层C的具有3层结构的聚乙烯醇系聚合物薄膜,其特征在于,满足下述式(I)~(III):ΔnMDA/ΔnMDB=1.0~1.5 (I)ΔnMDB-ΔnMDC≥0.2×10-3 (II)ΔnMDA<3.0×10-3 (III)上述式中,ΔnMDA表示表层A的机械运行方向的双折射率,ΔnMDB表示表层B的机械运行方向的双折射率,ΔnMDC表示内芯层C的机械运行方向的双折射率。
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