[发明专利]多组分沉积无效
| 申请号： | 200510068530.0 | 申请日： | 2005-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1670253A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | I·V·贝罗索夫;A·I·库兹米切夫;V·比伯;R·L·梅门 | 申请（专利权）人： | 联合工艺公司 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C23C16/44;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为离子增强型物理汽相沉积增加溅射以沉积多组分材料。该工艺可用于沉积镀层和在Ti合金涡轮零件上沉积修复材料。该物理汽相沉积可以是离子增强型电子束物理汽相沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 组分 沉积 | ||
【主权项】：
1、一种用于将沉积材料沉积在零件上的方法，包括：将零件置于沉积腔中；在零件上施加第一电势；将用于形成沉积材料的一种或多种第一组分汽化；电离该汽化后的第一组分，第一电势将电离后的第一组分吸引到零件上来；以及溅射用于形成沉积材料的一种或多种第二组分，该溅射的第二组分与电离的第一组分同时沉积。
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