[发明专利]利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法无效
申请号: | 200510067047.0 | 申请日: | 2005-04-27 |
公开(公告)号: | CN1854765A | 公开(公告)日: | 2006-11-01 |
发明(设计)人: | 郑尧中;施明志;王传恕;巫瑞琪;刘俞君 | 申请(专利权)人: | 力特光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/30;G02F1/1335;B32B7/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 文琦;陈肖梅 |
地址: | 台湾省桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明为一种利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法,该方法是用于液晶显示器偏光板的光学薄膜制程中,该方法主要是一种干式的前处理制程,采用紫外光照射空气中的氧来产生臭氧,利用臭氧的强力氧化能力增加光学薄膜亲水自由基而降低接触角,可减少传统湿式制程花费较大、使用不便的缺点。 | ||
搜索关键词: | 利用 臭氧 降低 光学薄膜 接触角 方法 | ||
【主权项】:
1.一种利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法,其特征是,将一光学薄膜经由臭氧干式前处理,以增加光学薄膜表面亲水性,降低接触角度。
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