[发明专利]一种硅基氧化锌紫外电致发光器件及其制备方法无效
申请号: | 200510061603.3 | 申请日: | 2005-11-18 |
公开(公告)号: | CN1787246A | 公开(公告)日: | 2006-06-14 |
发明(设计)人: | 马向阳;杨德仁;陈培良;阙端麟 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 韩介梅 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅基氧化锌紫外电致发光器件及其制备方法。该器件在硅衬底的正面自下而上依次沉积ZnO薄膜、SiO2薄膜和电极,在硅衬底背面沉积欧姆接触电极。其制备步骤如下:先将N型硅片清洗后放入直流反应磁控溅射装置的反应室中,反应室抽真空,以Zn为靶材,以O2和Ar作为溅射气氛,进行溅射生长,得到ZnO薄膜;然后用化学气相沉积法或蒸发法或溅射法或溶胶-凝胶方法在ZnO薄膜上沉积SiO2薄膜;再在SiO2薄膜上溅射电极,在硅衬底背面溅射欧姆接触电极。本发明器件的结构和实现方式简单,不需要采用P型ZnO薄膜,因而避开了ZnO薄膜P型掺杂困难的问题。且制备方法所用的设备与现行成熟的硅器件平面工艺兼容。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 紫外 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.硅基氧化锌紫外电致发光器件,其特征是在硅衬底(1)的正面自下而上依次沉积有ZnO薄膜(2)、SiO2薄膜(3)和电极(4),在硅衬底背面沉积有欧姆接触电极(5)。
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