[发明专利]可选择射束电流和能量分布的粒子源有效

专利信息
申请号: 200510051944.2 申请日: 2005-02-16
公开(公告)号: CN1658331A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: J·奇梅里克;A·亨斯特拉 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G21K1/00 分类号: G21K1/00;G21K1/02;G02B3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯;张志醒
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明揭示了一种能够进行能量选择的粒子源。能量选择是通过使带电粒子束(13)偏心通过透镜(6)。由于这种方式,在经透镜(6)所形成的像15内出现能量扩散。通过将像(15)投射到光阑(7)上,可仅允许能谱内有限部分的粒子通过。因此,通过的射束(16)具有减小的能够分布。通过增设偏转单元(10),该粒子束(16)能够向光轴偏转。还可选择向光轴偏转通过透镜(6)中央的(例如具有较大射束电流的)射束(12)。
搜索关键词: 可选择 电流 能量 分布 粒子
【主权项】:
1.一种设有粒子源的粒子-光学装置,该粒子源做成可产生至少一个带电粒子束(16),所述粒子源具有:一个用以发射带电粒子的粒子发射面(1);一个用以形成所述粒子发射面(1)的像(15)的透镜(6);一个用以限制所述带电粒子束的限束光阑(3);以及一个位于所述像(15)处的能量选择光阑(7),其特征在于,所述限束光阑(3)做成使所述粒子束(16)偏心通过所述透镜(6)。
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