[发明专利]用于钼的化学蚀刻溶液无效
申请号: | 200510044853.6 | 申请日: | 2005-09-21 |
公开(公告)号: | CN1743509A | 公开(公告)日: | 2006-03-08 |
发明(设计)人: | 徐海波;王佳;王伟;姜应律;王燕华 | 申请(专利权)人: | 中国海洋大学 |
主分类号: | C23F1/26 | 分类号: | C23F1/26 |
代理公司: | 青岛海昊知识产权事务所有限公司 | 代理人: | 崔清晨 |
地址: | 266003山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种用于钼的化学蚀刻溶液,其特征在于由硫酸、硝酸和水所组成,它们的体积百分数范围为硫酸5%-35%、硝酸5%-25%、水40%-90%;所述的硫酸浓度为95%-98%、硝酸的浓度为65%-68%。它还可以含有一种添加剂乙二胺四乙酸二钠,该添加剂的浓度为0.01-1g/L。本发明的蚀刻溶液可在常温下使用,具有腐蚀速度快,侧蚀小,使用寿命长和加工成本低等优点,即使在静止溶液中也可实现钼的快速蚀刻。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 蚀刻 溶液 | ||
【主权项】:
1一种用于钼的化学蚀刻溶液,其特征在于由硫酸、硝酸和水所组成,它们的体积百分数范围为硫酸5%-35%、硝酸5%-25%、水40%-90%;所述的硫酸浓度为95%-98%、硝酸的浓度为65%-68%。
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