[发明专利]水热法生产大尺寸人造光学石英晶体的方法无效

专利信息
申请号: 200510043607.9 申请日: 2005-05-20
公开(公告)号: CN1865525A 公开(公告)日: 2006-11-22
发明(设计)人: 袁刚;黄汉长;王克服;许永久;谭允民;刘训珍;张乃强;董汉俊;周辉 申请(专利权)人: 淄博宇峰实业有限责任公司
主分类号: C30B7/10 分类号: C30B7/10;C30B29/18
代理公司: 淄博科信专利商标代理有限公司 代理人: 耿霞
地址: 255000山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 水热法生产大尺寸人造光学石英晶体的方法,主要技术特点是同压电水晶生产一样,采用水热温差法,在高压釜中生长。晶体的生长速度主要取决于压力、温差、温度、速率和籽晶取向。籽晶取向为:以Y轴为长度方向,X轴为宽度方向,Z轴为生长方向;生长温度Tg=330℃~340℃,溶解区温度Ts=370℃~380℃,温差ΔT=30℃~40℃,压力P=145~150MPa。生长出的大尺寸石英晶体尺寸为Z=240-250mm、X=140-150mm、Y=290mm、重量=20-25kg。晶体无色透明,无裂纹、气泡、双晶、生长丘平滑。产品合格率高,适用于大尺寸光学延迟片及其他需要大尺寸的光学晶体领域。
搜索关键词: 水热法 生产 尺寸 人造 光学 石英 晶体 方法
【主权项】:
1、一种水热法生产大尺寸人造光学石英晶体的方法,其特征在于:籽晶取向为:以Y轴为长度方向,X轴为宽度方向,Z轴为生长方向;生长温度Tg=330℃~340℃,溶解区温度Ts=370℃~380℃,温差ΔT=30℃~40℃,压力P=145~150Mpa;生长的速率为:1~50天:0.9mm/天,Tg=340℃、Ts=370℃、ΔT=30℃、P=145Mpa;51~100天:0.9mm/天,Tg=335℃、Ts=370℃、ΔT=35℃、P=147Mpa;101~150天:0.9mm/天,Tg=335℃、Ts=375℃、ΔT=40℃、P=148Mpa;150~280天:0.9mm/天,Tg=330℃、Ts=380℃、ΔT=50℃、P=150Mpa。
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