[发明专利]可见光敏聚合引发体系的方酸染料/六芳基双咪唑复合物无效
| 申请号： | 200510038910.X | 申请日： | 2005-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1727365A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | 徐俊伟;黄建;邓爱斌 | 申请（专利权）人： | 常州华钛化学有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/50 | 分类号： | C08F2/50;C08F20/00;C08F18/08;C08F26/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213241*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于感光高分子材料领域，特别是涉及可见光敏聚合新型复合引发剂方酸染料(I)/六芳基双咪唑(II)复合物及其用途。复合物是由方酸染料(I)和六芳基双咪唑(II)以六芳基双咪唑的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相互作用形成的；方酸染料/六芳基双咪唑复合物能作为烯类单体可见光光聚合的引发剂或作为光固化涂层材料、光刻材料、光成像材料、全息记录材料、光学材料以及三维造型材料可见光光固化的引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 可见 光敏 聚合 引发 体系 染料 六芳基双 咪唑 复合物 | ||
【主权项】：
1.一种方酸染料/六芳基双咪唑复合物的用途，其特征在于方酸染料/六芳基双咪唑复合物可以烯类单体可见光光聚合的引发剂或者作为光固化材料可见光光固化的引发剂。方酸染料用量为光反应体系的0.001～1wt％，复合物是由方酸染料和六芳基双咪唑以六芳基双咪唑的重量为方酸染料重量的1～10倍，在有机物中通过静电作用形成的。
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