[发明专利]碳纳米管阵列结构的制备装置有效
| 申请号： | 200510034356.8 | 申请日： | 2005-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1850594A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 姜开利;刘锴;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;B82B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碳纳米管阵列结构的制备装置，其包括一反应腔，其特征在于该反应腔包括一第一气体入口，一第二气体入口，一气体出口，反应腔内设置一气体输送管及一用于承载生长碳纳米管用基底的承载元件，气体输送管一端连接第二气体入口，另一端通入该承载元件。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 阵列 结构 制备 装置 | ||
【主权项】：
1.一种碳纳米管阵列结构的制备装置，其包括一反应腔，其特征在于该反应腔包括一第一气体入口，一第二气体入口，及一气体出口；反应腔内设置一气体输送管及一用于承载生长碳纳米管用基底的承载元件，所述气体输送管一端连接第二气体入口，另一端通入该承载元件。
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