[发明专利]多功能复合磁控等离子体溅射装置有效

专利信息
申请号: 200510028705.5 申请日: 2005-08-11
公开(公告)号: CN1718849A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 孙卓 申请(专利权)人: 孙卓
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 上海三方专利事务所 代理人: 吴干权
地址: 200062上海市中*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于表面处理技术领域,具体的说是多功能复合磁控等离子体溅射装置,包括主真空腔体(1)、附真空腔体(2)、闸板阀(3)、磁力传输杆(4)、气体流量控制器(9)、主真空腔体进气管(10)、主真空腔体抽真空接口管(5)、主真空腔体抽真空闸板阀(6)、分子泵(7)、机械泵(8)、附真空腔体进气管(11)、附真空腔体抽真空接口管(12)、观察窗(13)。本发明与现有技术相比,采用了模块化设计思想及整体控制模式,除使薄膜沉积的质量得以改善外,也使薄膜沉积的整个过程缩短,同时制造成本大幅降低,大大提高生产效率。
搜索关键词: 多功能 复合 等离子体 溅射 装置
【主权项】:
1.多功能复合磁控等离子体溅射装置,包括主真空腔体(1)、附真空腔体(2)、闸板阀(3)、磁力传输杆(4)、气体流量控制器(9)、主真空腔体进气管(10)、主真空腔体抽真空接口管(5)、主真空腔体抽真空闸板阀(6)、分子泵(7)、机械泵(8)、附真空腔体进气管(11)、附真空腔体抽真空接口管(12)、观察窗(13);其特征在于:磁力传输杆(4)的一端连接附真空腔体(2)的一端,附真空腔体(2)的另一端连接闸板阀(3)的一端,闸板阀(3)的另一端连接主真空腔体(1)的一端,主真空腔体(1)的另一端连接观察窗(13),主真空腔体底部的主真空腔体进气管(10)连接气体流量控制器(9)的一端,气体流量控制器(9)的另一端连接附真空腔体底部的附真空腔体进气管(11),主真空腔体的底部连接主真空腔体抽真空接口管(5)的上端口,主真空腔体抽真空接口管(5)的下端口连接主真空腔体抽真空闸板阀(6)的一端,主真空腔体抽真空闸板阀(6)的另一端连接分子泵(7),分子泵(7)的前级连接机械泵(8),主真空腔体抽真空接口管(5)的一端连接附真空腔体抽真空接口管(12)的一端口,附真空腔体抽真空接口管(12)的另一端口连接附真空腔体的底部。
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