[发明专利]位场高分辨率视深度滤波方法无效

专利信息
申请号: 200510011591.3 申请日: 2005-04-19
公开(公告)号: CN1667433A 公开(公告)日: 2005-09-14
发明(设计)人: 杨辉 申请(专利权)人: 杨辉
主分类号: G01V7/06 分类号: G01V7/06
代理公司: 北京科大华谊专利代理事务所 代理人: 刘月娥
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种位场高分辨率视深度滤波方法,属于地球物理勘探技术领域。采用垂直一阶导数或二阶导数的高分辨率视深度滤波及水平一阶导数的高分辨率视深度滤波。首先对视深度滤波在波数域中的算子FPDF乘上水平一次导数算子Fgx或垂直一次导数算子Fgz或垂直二次导数算子Fgzz,得到高分辨率视深度滤波在波数域中的算子FHPDF。对原始观测数据进行傅氏变换,然后与高分辨率视深度滤波在波数域中的算子FHPDF相乘,再经过傅氏反变换,得到高分辨率视深度滤波在2D/3D空间分布的数据体。通过绘图软件绘制2D断面图或者3D立体图、水平切片图、垂直切片图;确定场源的质心深度。其优点在于提高异常分辨率,可进行异常分离并能够确定局部及断裂构造质心深度。
搜索关键词: 高分辨率 深度 滤波 方法
【主权项】:
1、一种2D/3D位场高分辨率视深度滤波方法,其特征在于:采用垂直一阶导数或二阶导数的高分辨率视深度滤波,提高局部构造分辨率及确定局部构造质心深度;采用水平一阶导数的高分辨率视深度滤波,提高断裂构造分辨率及确定断裂构造深度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨辉,未经杨辉许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510011591.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top