[发明专利]一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法无效

专利信息
申请号: 200510011348.1 申请日: 2005-02-24
公开(公告)号: CN1663969A 公开(公告)日: 2005-09-07
发明(设计)人: 王戈;冯莉 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C08F2/44 分类号: C08F2/44
代理公司: 北京科大华谊专利代理事务所 代理人: 刘月娥
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法。采用蒙脱土MMT的层间作为单体聚合的反应空间,将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到模板聚合反应中,先将聚合单体插层组装到蒙脱土MMT层间,再以MMT为模板,使聚合单体在模板内发生聚合反应,然后分离出聚合物。本发明的优点在于:聚合条件易于控制,聚合影响因素少,制备的聚合物具有纳米尺寸特点。该类聚合物在机械、光、电、磁、微处理器件、药物控释、环境保护、隐身材料、高性能涂层材料、纳米反应器及生物化学等方面将具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 蒙脱土 模板 制备 纳米 聚合物 方法
【主权项】:
1、一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法,其特征在于:将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到模板聚合反应中,先将聚合单体插层组装到蒙脱土MMT层间,再以MMT为模板,使聚合单体在模板内发生聚合反应,然后分离出聚合物;具体制备步骤如下:a、将聚合单体滴入蒙脱土水溶液中,溶液质量浓度为3-7%,搅拌6~24小时,搅拌温度为20~80℃,水洗至滤液中聚合单体浓度达1~9ppm摩尔/升,然后在60~80℃干燥18~25小时,得到层间客体为所插入聚合单体的蒙脱土模板;用红外光谱IR,核磁NMR,x-射线衍射XRD表征手段证明单体插层组装到了蒙脱土的层间;b、将步骤a得到的模板MMT-聚合单体分散在水溶剂中,视模板内反应聚合单体不同加入重量比为1-5‰的引发剂,加热回流6~25小时,使模板内的聚合单体发生聚合反应,然后过滤、洗涤,在60~80℃干燥20~25小时,得到层间客体为聚合物的蒙脱土;c、用氢氟酸将步骤b得到的蒙脱土的层板溶解,再将聚合物分离出来。
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