[发明专利]具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法有效
| 申请号： | 200510009077.6 | 申请日： | 2005-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN1658073A | 公开（公告）日： | 2005-08-24 |
| 发明（设计）人： | H·布特;M·E·J·布恩曼;P·M·C·M·范登比格拉亚尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有改善的聚焦控制系统的光刻装置。该光刻装置包括：设置成提供辐射束的照明系统；设置成支持图形化装置的第一支持结构，该图形化装置向辐射束截面传递预期图形；包含用于支撑衬底的衬底支架的第二支持结构；设置成把图形化的辐射束投影到衬底表面的目标部分的投影系统；以及设置成定位衬底支架的伺服单元。该装置进一步包括：设置成测定衬底表面上至少一个位置点相对于参考平面的距离的传感器单元；存储器单元，设置成基于衬底表面上相应的该至少一个位置点的各自的距离，存储衬底表面信息；以及设置成基于存储的表面信息来确定前馈设定点信号的计算单元，使得前馈设定点信号被前馈到伺服单元以定位衬底支架。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 调焦 装置 光刻 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包含：设置成提供辐射束的照明系统；设置成支持图形化装置的第一支持结构，该图形化装置向辐射束截面传递期望图形；包含用于支撑衬底的衬底支架的第二支持结构；设置成把图形化的辐射束投影到所述衬底表面的目标部分的投影系统；设置成定位所述衬底支架的伺服单元；传感器单元，设置成确定所述衬底表面上至少一个位置点相对于参考平面的距离；存储器单元，设置成基于所述衬底表面上相应的所述至少一个位置点的各自的距离，存储所述衬底的表面信息；以及设置成基于所述存储的表面信息来确定前馈设定点信号的计算单元，其中所述前馈设定点信号被前馈到所述伺服单元以定位所述衬底支架。
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