[发明专利]具有低折射率及斥水性的覆膜

摘要

提供了在基材上显示1.28～1.41的折射率和90～115度的水接触角的，且与该基材的表面粘附形成的高硬度的覆膜。形成以特定比例含有Si(OR)₄所示的硅化合物(A)、CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹) ₃所示的硅化合物(B)、H₂NCONH (CH)_mSi(OR²) ₃所示的硅化合物(C)、R³CH₂OH所示醇(D)以及草酸(E)的反应混合物，通过在水不存在下于40～180℃加热该反应混合物生成聚硅氧烷的溶液，在基材表面涂布含有该溶液的涂布液，通过在40～450℃使该涂膜热固化来在该基材表面粘附形成显示1.28～1.41的折射率和90～115度的水接触角的覆膜、该覆膜的形成方法及该涂布液的制造方法。

主权项

1.含有聚硅氧烷的涂布液的制造方法，其特征在于，形成含有式(1)Si(OR)4 (1)所示的硅化合物(A)、式(2)CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR1)3 (2)所示的硅化合物(B)、式(3)H2NCONH(CH)mSi(OR2)3 (3)所示的硅化合物(C)、式(4)R3CH2OH (4)所示的醇(D)以及草酸(E)的反应混合物，使该反应混合物维持在由其中的硅原子换算的SiO2浓度在0.5～10重量％且不存在水的状态，同时在40～180℃加热直到该反应混合物中的硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)的总残存量达到5摩尔％以下，该反应混合物中相对于1摩尔硅化合物(A)，硅化合物(B)为0.05～0.43摩尔的比率，相对于1摩尔硅化合物(A)，硅化合物(C)为0.01～0.20摩尔的比率，相对于1摩尔在硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)中所含的全部烷氧基，醇(D)为0.5～100摩尔的比率，相对于1摩尔在硅化合物(A)、硅化合物(B)及硅化合物(C)中所含的全部烷氧基，草酸(E)为0.2～2摩尔的比率，式中，R表示具有1～5个碳原子的烷基，R1表示具有1～5个碳原子的烷基，n表示0～12的整数，R2 表示具有1～5个碳原子的烷基，m表示1～5的整数，R3表示氢原子或者具有1～12个碳原子的烷基，该烷基可用选自具有1～3个碳原子的烷基、具有1～3个碳原子的羟烷基、具有2～6个碳原子的烷氧基烷基、具有2～6个碳原子的羟基烷氧基烷基以及具有3～6个碳原子的烷氧基烷氧基烷基的不同或相同的1个以上的取代基任意取代。