[发明专利]制造用于微滴沉积设备的元件的方法无效
| 申请号： | 200480026307.3 | 申请日： | 2004-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1849216A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | P·R·德鲁里 | 申请（专利权）人： | 萨尔技术有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑建晖;杨勇 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 通过在基材上形成一层光致抗蚀剂和选择性地曝光并去除材料以限定独立实体的阵列来制造喷嘴板元件。然后，在实体周围电铸成形镍以形成板，通过贯穿光致抗蚀剂进行烧蚀形成喷嘴。可基本上重复该方法以在每个喷嘴周围形成防护结构。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 沉积 设备 元件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成用于微滴沉积设备的喷嘴板元件的方法，所述方法包括以下步骤：形成第一材料的实体，所述实体具有外周；在所述实体周围形成一块第二材料的板，使得该板在所述实体的所述外周的至少一部分周围延伸；并且形成贯穿所述实体延伸的喷嘴。
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