[发明专利]用于制造液晶显示器的方法有效
| 申请号: | 200480015385.3 | 申请日: | 2004-06-03 |
| 公开(公告)号: | CN1799000A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
| 发明(设计)人: | 田中秀夫 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1368 | 分类号: | G02F1/1368 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;梁永 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | 在有源矩阵型液晶显示器中的薄膜晶体管的源极和漏极之间的间隙中形成半导体膜。通过栅绝缘膜在所述半导体膜上形成用于栅极的金属膜。在金属膜上形成光致抗蚀剂膜,光致抗蚀剂膜具有在包括间隙的区域中的厚部分和在接触孔形成区中的开口部分。通过使用有机材料膜作为掩模在栅绝缘膜中形成接触孔。在包括间隙的区域中残留有机材料膜。通过使用残留的有机材料膜作为掩模,通过刻蚀第一金属膜在包括间隙的区域上形成栅极。在除了接触孔形成区之外的反射区中形成具有凸起和凹陷的有机材料膜。在具有凸起和凹陷的有机材料膜上形成反射电极。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 制造 液晶显示器 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于制造液晶显示器的方法,包括步骤:在有源矩阵型液晶显示器中的薄膜晶体管的源极和漏极之间的间隙中形成半导体膜,并通过栅绝缘膜在半导体膜上形成用于栅极的第一金属膜;在第一金属膜上形成第一有机材料膜,该第一有机材料膜具有在包括间隙的区域中的厚部分和在接触孔形成区中的开口部分;通过使用第一有机材料膜作为掩模在栅绝缘膜中形成接触孔,同时在包括间隙的区域中残留第一有机材料膜;通过使用残留的第一有机材料膜作为掩模,通过刻蚀第一金属膜在包括间隙的区域上形成栅极;和在除了接触孔形成区之外的反射区中形成具有凸起和凹陷的第二有机材料膜,并在具有凸起和凹陷的第二有机材料膜上形成反射电极。
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