[发明专利]双折射薄膜的制备方法以及使用该双折射薄膜的光学膜和图像显示装置有效

专利信息
申请号: 200480013713.6 申请日: 2004-10-01
公开(公告)号: CN1791817A 公开(公告)日: 2006-06-21
发明(设计)人: 石桥邦昭;土本一喜;吉见裕之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了具有优异的面内相位差、在厚度方向的相位差和取向轴均一性的双折射薄膜。所述双折射薄膜如下制备:在拉伸聚合物薄膜的过程中,在宽度方向拉伸该聚合物薄膜的同时在长度方向收缩该聚合物薄膜,并假定所述聚合物薄膜在被拉伸前在宽度方向和长度方向的长度为1,由于所述拉伸导致的聚合物薄膜在宽度方向的长度改变率(STD)和由于所述收缩导致的聚合物薄膜在长度方向的长度改变率(SMD)符合下式(1),(1/STD)1/2≤SMD<1 (1)。
搜索关键词: 双折射 薄膜 制备 方法 以及 使用 光学 图像 显示装置
【主权项】:
1.双折射薄膜的制备方法,包括拉伸聚合物薄膜的步骤,其中,在所述拉伸聚合物薄膜的步骤中,在宽度方向拉伸该聚合物薄膜的同时在长度方向收缩该聚合物薄膜,并假定在被拉伸前所述聚合物薄膜在宽度方向和长度方向的长度是1,由于所述拉伸导致的聚合物薄膜在宽度方向的长度改变率(STD)和由于所述收缩导致的聚合物薄膜在长度方向的长度改变率(SMD)满足下式(1)代表的关系: (1/STD)1/2≤SMD<1 (1)。
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