[发明专利]用于同时得到一对由有用层覆盖的衬底的方法

摘要

本发明涉及一种用于同时得到至少一对结构(51，52)的方法，每一个结构具有由有用层(110，120)覆盖在衬底(71，2)上。该方法的特征在于包含如下的步骤，包括：a)准备行(1)结构，其具有放在支持衬底(2)上的有用层；b)在所述有用层内部形成弱化区，从而定义前面有用层(110)和后面有用层(120)；c)将加强衬底(71)附着到所述前面有用层(120)；d)沿着弱化区分离叠层以得到两个行结构(2)，第一个(51)包括支持衬底(2)和后面有用区(120)，并且第二个(52)包括增强衬底(71)和前面有用层(110)。本发明用于电子学、光电子或光学领域。

主权项

1、一种同时产生用在电子学、光电子或者光学领域的至少一对结构(51，51′，52，52′)的方法，其中每一个结构包括至少一个转移到衬底(71，2)上的有用层(110，120)，包括的步骤包括：a)准备称为级1的结构(5，5′)，结构(5，5′)包括转移到支持衬底(2)的有用层(11)；b)在所述级1结构的有用层(11)的内部形成弱化区(6)，通过注入原子种类，从而定义称为“前面有用层”和“后面有用层”的两层(110，120)，后面有用层(120)位于所述前面有用层(110)和所述支持衬底(2)之间。c)将增强衬底(71)附着到所述前面有用层(110)的自由面(130)上；d)通过施加应力，沿着所述的弱化区(6)分离在步骤c)中获得的叠层，从而得到两个级2结构(51，51′，52，52′)，其中第一个结构(51，51′)至少包括所述支持衬底(2)和所述后面有用层(120)，并且第二个结构(52，52′)至少包括所述增强衬底(71)和所述前面有用层(110)。