[发明专利]用于现场监视器和膜厚及沟槽深度控制的系统和方法

摘要

本发明针对用于计算表面或结构，例如半导体晶圆上的度量衡数据(层厚以及凹陷和沟槽的深度)的系统、方法和软件程序产品。本方法不需要表面或者结构的反射率或者透射率的知识，而是只需要知道与反射率或透射率线性变换相关的量。初始地，使用计算晶圆上分离区域的表面反射率所需的许多参数来构造工艺的简化的光学模型。利用例如现场监视从晶圆的表面搜集反射率数据，并且从当前光谱与参考光谱的比率来确定归一化反射率。参考光谱取自完全由一种材料构成的参考晶圆，其中很好地特性化了反射特性。对观察的和计算的数据都进行变换，使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致。通过对观察的数据和计算的模型都进行变化使得它们的垂直范围和光谱平均的值相一致，则可以忍受数据和模型两者中的大的误差。采用了优值函数，其利用特定选择的参数来测量观察的数据和模型之间的一致性。可以利用标准数值技术对该优值函数进行最小化，以便于在参数的正确值处找到优值函数中的深的最小值。

主权项

1、一种用于确定与晶圆相关联的至少一个参数的值的方法，包括：从晶圆表面接收观察到的反射率数据；为该晶圆得到计算的反射率数据，所述计算的反射率数据为至少一个参数的函数；对所述观察到的反射率数据和所述计算的反射率数据之一进行变换；对所述观察到的反射率数据和所述计算的反射率数据中的另一个进行变换，以便与所述观察到的反射率数据和所述计算的反射率数据中的经过变换的那一个相一致；关于所述至少一个参数在所述观察到的反射率数据和所述计算的反射率数据中的所述经过变换的一个以及所述观察到的反射率数据和所述计算的反射率数据中的所述经过变换的另一个之间找到一致性；以及根据所述一致性来确定所述至少一个参数的值。