[发明专利]用于将厚膜成像的光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200480007647.1 | 申请日： | 2004-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1761915A | 公开（公告）日： | 2006-04-19 |
| 发明（设计）人： | R·R·达米尔;S·迈耶;M·A·斯帕克 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/022;G03F7/016 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种特别可用于将厚膜成像的光敏性光致抗蚀剂组合物，其含有成膜性碱溶性树脂，光活性化合物，和基于光致抗蚀剂总重量计的含量范围在约2000ppm～约14,000ppm的表面活性剂。优选光致抗蚀剂膜厚度大于20微米。本发明进一步提供一种本发明光敏性组合物的涂覆和成像方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 将厚膜 成像 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种特别可用于将厚膜成像的光致抗蚀剂组合物，其含有碱溶性树脂，光活性化合物，表面活性剂和溶剂，其中表面活性剂的相对于光致抗蚀剂总重量计的含量范围为2000ppm～14,000ppm。
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