[发明专利]荧光X射线分析装置无效
| 申请号: | 200480002434.X | 申请日: | 2004-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN1739023A | 公开(公告)日: | 2006-02-22 |
| 发明(设计)人: | 河野久征;庄司孝;堂井真 | 申请(专利权)人: | 理学电机工业株式会社 |
| 主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。 | ||
| 搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置包括:对试样照射1次X射线的X射线源;使从上述试样发生的2次X射线发散的发散细缝;对通过该发散细缝发散的2次X射线进行分光、会聚的分光元件;测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器;上述分光元件采用多个弯曲分光元件,该多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看,2次X射线的光路扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。
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