[发明专利]三维周期构造体以及其制备方法有效
| 申请号： | 200480000860.X | 申请日： | 2004-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1701244A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 桐原聪秀;宫本钦生;中川卓二;田中克彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02;G02B6/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈瑞丰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使用可光固化树脂通过光成型方法形成光子学晶体单元(10a、10b和10c)，并且在晶体单元之间的边界上提供隔离物(11)。在每个光子学晶体单元中的空隙都填充有第二物质，所述的第二物质具有分散在其中的陶瓷粒子，以形成填充部分2。排列包含以三维周期性分布的第一和第二物质的三维周期构造体单元，以便在第一和第二物质的介电常数之间具有不同比值。因此，本发明提供一种具有宽光子学带隙的三维周期构造体，所述的宽光子学带隙在传统三维周期构造体中是不能获得的。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 周期 构造 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种三维周期构造体，其包含：各自含有具有不同介电常数的第一物质和第二物质的多个三维周期构造体区域，该构造体周期性地分布于三维空间中，其中所述多个三维周期构造体区域在第一和第二物质的介电常数之间具有不同比值。
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