[实用新型]一种光学镀膜设备无效
| 申请号： | 200420083969.1 | 申请日： | 2004-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN2736368Y | 公开（公告）日： | 2005-10-26 |
| 发明（设计）人： | 翁维襄 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光学镀膜设备，其包括：一真空室，一与该真空室相连接的真空泵，一设置在该真空室内部上方的旋转夹具，和一设置在该真空室内部底端的电子束蒸发系统。该电子束蒸发系统包括：一设置在底端中心的容器，用于放置靶材，设置在该容器附近的一电子枪、一聚焦器、一偏转磁场和一可移动挡板，以及一收集桶设置于该容器附近；该挡板可移动于第一位置和第二位置，当其移动至第一位置时，设置在靶材的容器上方并遮盖该容器，当其移动至第二位置时，设置在收集桶上方，并可将粘附于该挡板表面的吸附物脱落于收集桶中。本实用新型设备在靶材预融过程中，不会出现因挡板吸附性差而脱落蒸发物于靶材上，进而引起污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光学镀膜设备，其包括：一真空室，一与该真空室相连接的真空泵，一设置在该真空室内部上方的旋转夹具，和一设置在该真空室内部底端的电子束蒸发系统；该电子束蒸发系统包括：一设置在底端中心的容器，用于放置靶材，以及设置在该容器附近的一电子枪、一聚焦器、一偏转磁场和一可移动档板，其特征在于进一步包括一收集桶设置于该容器附近；该档板可移动于第一位置和第二位置之间，当其移动至第一位置时，置于靶材的容器上方并遮盖该容器，当其移动至第二位置时，置于收集桶上方，并可将粘附于该档板表面的吸附物脱落于收集桶中。
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