[发明专利]曝光系统控制方法无效

专利信息
申请号: 200410104167.9 申请日: 2004-12-30
公开(公告)号: CN1797166A 公开(公告)日: 2006-07-05
发明(设计)人: 林文国 申请(专利权)人: 矽统科技股份有限公司
主分类号: G03B7/28 分类号: G03B7/28;G03B7/00;H04N5/232
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明为一种曝光系统控制方法,包括设定一目标亮度值;设定若干个区段(range)与阶段(step)等参数;输入曝光值(Exposure Value,EV),且依区段、阶段进行调整得出曝光调整值;借调整因子,由一查表方式得出一新的目标亮度值;借曝光设定值量测得一亮度量测值并借一曝光调整流程得出一调整后的曝光值。借上述方法在影像处理器中以基本逻辑、加减乘除等运算取代公知运用复杂的对数(logarithm)运算的曝光值计算方式,以解决电力耗损或执行速度不佳的问题。
搜索关键词: 曝光 系统 控制 方法
【主权项】:
1.一种曝光系统控制方法,其特征在于:该方法步骤包括有:设定一目标亮度值;设定比较运算的条件;激活曝光补偿,则调整该目标亮度值;设定第一曝光值;输入一被摄物的亮度量测值;执行该亮度量测值与该目标亮度值的亮度值比较运算;以及得出第二曝光值,是经反复的该比较运算,若曝光值不需改变,则此曝光控制结束。
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