[发明专利]具有取决于工艺的槽结构的化学机械抛光基台有效
| 申请号： | 200410100742.8 | 申请日： | 2004-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN1626316A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 格雷戈里·P·马尔多奈伊 | 申请（专利权）人： | CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24B29/00;B24B37/04;H01L21/302 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋旭荣 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种抛光体，例如基台(200，230，260，300)或带(400，500)，其具有一抛光层(214，404)，该抛光层包括一个回混区(202，232，262，308，416，508)，其中，在某些条件下，回混发生在晶片(204，234，264，304，408)或工件与抛光层之间的浆料(116)内。抛光层包括在回混区内的第一槽结构(206，236，266，312，428，504)以及在回混区外侧的第二槽结构(208，238，268，320，432，520)，该结构与第一槽结构(206，236，266，312，428，504)不同。第一槽结构是存在于回混区内的用过浆料是否有利或有损于抛光晶片设计的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 取决于 工艺 结构 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基台，其用于对以预定的第一转速绕第一转动轴线转动的物件进行抛光，其包括：(a)一个抛光层，其可操纵地相对于第一转动轴线以预定的速率移动，所述抛光层包括：(i)一个位于临界半径0.5～2倍处的边界，所述临界半径被计算作为物件的预定的第一转速和抛光层的预定的速率的函数，所述边界具有第一侧和与第一侧相对的第二侧；(ii)第一组槽，这些槽位于边界的第一侧上并具有第一结构；以及(iii)第二组槽，这些槽位于边界的第二侧上并具有不同于第一结构的第二结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司，未经CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410100742.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
