[发明专利]溅射靶的控制冷却无效
| 申请号： | 200410096360.2 | 申请日： | 2004-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN1690246A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 程远达;史蒂文·罗格·肯尼迪;迈克尔·吉恩·拉辛;阿南德·S·德奥达特 | 申请（专利权）人： | 黑罗伊斯有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谢丽娜;顾红霞 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于制造溅射靶的方法，其中通过产生溅射表面和正对溅射表面的背表面有选择地控制冷却速率。背表面包括至少第一纹理区。第一纹理区通过有效实现热散逸有助于冷却接近第一纹理区的溅射靶区域。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 控制 冷却 | ||
【主权项】：
1、一种通过表面积改变有选择地控制冷却速率的溅射靶，包括：溅射表面；以及正对所述溅射表面的背表面，所述的背表面还包括至少第一纹理区；其中所述的第一纹理区通过有效实现热散逸有助于冷却接近所述第一纹理区的溅射靶区域。
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