[发明专利]一种介孔分子筛中有机模板剂的去除方法有效
申请号: | 200410096148.6 | 申请日: | 2004-11-30 |
公开(公告)号: | CN1613768A | 公开(公告)日: | 2005-05-11 |
发明(设计)人: | 杨立明;王玉军;骆广生;戴猷元 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C01B39/04 | 分类号: | C01B39/04 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李光松 |
地址: | 100084北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了属无机多孔材料技术领域的一种介孔分子筛中有机模板剂的去除方法。本发明以过氧化氢为氧化剂,利用水热条件和体系中的自生压力氧化去除介孔分子筛中的有机模板剂。该方法的特点是其采用的反应条件与介孔分子筛晶化过程的条件相同,可以在介孔分子筛晶化过程中同步完成有机模板剂的氧化去除,最大程度的节省了操作时间,而且成本低廉,简便易行。该方法可彻底去除有机模板剂,制备的介孔分子筛比传统的焙烧法得到的介孔分子筛具有更高的比表面积、更加规整、均一的颗粒度和更高的表面硅羟基含量;控制氧化处理时间可以得到无收缩的完整硅骨架;控制操作程序可以调控骨架的收缩程度,并可获得高水热稳定性的介孔分子筛。本发明可用于各种介孔分子筛中有机模板剂的去除。 | ||
搜索关键词: | 一种 分子筛 有机 模板 去除 方法 | ||
【主权项】:
1.一种介孔分子筛中有机模板剂的去除方法,其特征在于:以过氧化氢为氧化剂,采用水热环境和自生压力的介孔分子筛晶化处理,同步完成有机模板剂的氧化去除;去除有机模板剂的具体操作步骤如下:介孔分子筛的合成液经水解后,转入自生压力的反应釜内于80~120℃晶化0~48h,然后滤出固体,将固体置于自生压力的反应釜内,加入过氧化氢水溶液,再在80~120℃下处理0~48h,然后将固体滤出,洗涤,干燥。
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