[发明专利]光量调节构件及其制造方法、光量调节装置和摄影装置无效
| 申请号： | 200410092121.X | 申请日： | 2004-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN1731266A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 葛城隆司;宫崎健;鹿目修 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03B11/00 | 分类号： | G03B11/00;G02B5/20;G03B17/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种便宜并且光学特性优异的光量调节构件，特别提供一种可简便地制造ND滤光器的光量调节构件制造方法。此外，本发明的目的还在于提供一种具有由该简便制造方法制造出的、具有优异光学特性的光量调节机构的光量调节装置和摄影装置。上述目的由以下方式实现，即，本发明为一种分光透过特性在400nm－700nm几乎恒定的光量调节构件的制造方法，其包括通过在透明基底材料上吐出着色液，在该基底材料上施加着色液，形成由特定光学密度区域构成的着色部分的步骤，其中上述着色液至少包含一种这样的色料，将含有该色料的测定用溶液施加在上述透明基底材料上，所测定的吸收光谱的最大吸收波长在630nm－750nm的范围内，本发明还包括由该制造方法制造的光量调节构件、光量调节装置和摄影装置。 | ||
| 搜索关键词： | 调节 构件 及其 制造 方法 装置 摄影 | ||
【主权项】：
1.一种光量调节构件的制造方法，其包括通过向透明基底材料上吐出着色液，在该基底材料上施加着色液，形成由特定光学密度区域构成的着色部分的步骤，其特征为上述着色液至少包含一种这样的色料，将含有该色料的测定用溶液施加在上述透明基底材料上，所测定的吸收光谱的最大吸收波长在630nm-750nm的范围内。
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