[发明专利]滤色片阵列基板的制造方法有效
申请号: | 200410091461.0 | 申请日: | 2004-11-24 |
公开(公告)号: | CN1629699A | 公开(公告)日: | 2005-06-22 |
发明(设计)人: | 殷钟赞;具东孝;刘晙荣 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/136;G03F7/20;G02B5/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括:在基板上形成黑矩阵;在基板和黑矩阵上沉积彩色光阻剂;以及为彩色光阻剂形成图形,以形成滤色片层。彩色光阻剂的沸点范围约为70℃到80℃,其粘度范围约为3到5厘泊,其固体颗粒含量低于或等于大约20℃。 | ||
搜索关键词: | 滤色片 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括:在基板上形成黑矩阵;在基板和黑矩阵上沉积彩色光阻剂;以及对彩色光阻剂进行构图以形成滤色片层,其中彩色光阻剂的沸点范围约为70℃到80℃,粘度范围约为3到5厘泊,固体颗粒含量低于或等于约20%。
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