[发明专利]氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用有效
| 申请号： | 200410091156.1 | 申请日： | 2004-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN1779569A | 公开（公告）日： | 2006-05-31 |
| 发明（设计）人： | 罗杰·森特;陈昕;黄志齐;郑金红 | 申请（专利权）人： | 北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京金富邦专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 孙伯庆;揭玉斌 |
| 地址： | 101113北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及到单体、聚合物以及由此制备的适用于深紫外光源、尤其是ArF光源的光刻工艺光刻胶，又称光致抗蚀剂。本发明中新型的聚合物包括共聚物和三聚物，具体可用化学结构式1表示。其中氟代环烯烃单体中的R1可以是氢原子或本文所定义的酸不稳定悬挂基团，R2为C1～C10的烷基、卤素或三氟甲基。所述结构式1的共聚单体中的R3为卤素、氢原子或烷基，R4、R5、R6为说明书所定义的叔脂环基团。 | ||
| 搜索关键词： | 氟代环 烯烃 聚合物 深紫 光刻 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型正型光刻胶，其特征在于一种不溶于碱、但在酸的作用下又能在碱液中溶解的成膜树脂，其组成为：(a)一种由化学式1表示的单元，它是含有一种氟化的环烯烃重复链节的单体，其中：R1为H原子或一种酸不稳定基团，R2为C1～C10的烷基、卤素或三氟甲基，(b)一种单体单元，是一种含有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定碳氢脂环酯基团，其中R3为卤素、H原子或含酸不稳定保护基的烷基，R4、R5、R6中为叔脂环基，(c)一种单体单元，是一种任何能与环烯烃单体进行自由基共聚的第三单体；该成膜树脂含有5～40％的单体单元(a)，15～45％的单体单元(b)，45～55％的单体单元(c)；含有光致产酸剂和碱性添加剂。
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