[发明专利]氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用有效

专利信息
申请号: 200410091156.1 申请日: 2004-11-22
公开(公告)号: CN1779569A 公开(公告)日: 2006-05-31
发明(设计)人: 罗杰·森特;陈昕;黄志齐;郑金红 申请(专利权)人: 北京科华微电子材料有限公司;北京化学试剂研究所
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20
代理公司: 北京金富邦专利事务所有限责任公司 代理人: 孙伯庆;揭玉斌
地址: 101113北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 氟代环 烯烃 聚合物 深紫 光刻 中的 应用
【说明书】:
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