[发明专利]彩色影像感测装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200410089763.4 | 申请日： | 2004-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN1770015A | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 蔡宪庆;钟祥珉;汪嘉将;陈钰琬;陈诗岚;李甫哲 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩色影像感测装置及其制造方法。首先，提供一基板，包括一感测像素阵列于基板的主要区域，一接触垫于基板的外围区域上。形成一保护层于基底上，覆盖感测像素阵列与接触垫。形成一第一平坦层于保护层上。形成一彩色滤光层于第一平坦层上，对应该感测像素阵列区域。形成一第二平坦层于第一平坦层上，覆盖彩色滤光层。定义一第一开口于第二平坦层中，显露出第一平坦层，第一开口位于相对应接触垫的位置，以及施以干蚀刻工艺，以形成一第二开口于第一平坦层与保护层中，显露出接触垫。如此，接触垫开口于彩色滤光层之后形成，因此可避免接触垫表面腐蚀并且可克服现有技术光致抗蚀剂涂布不均的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 影像 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种彩色影像感测元件的制造方法，包括下列步骤：提供一基板，包括一感测像素阵列于该基板的主要区域，一接触垫于该基板的外围区域上；形成一保护层于该基底上，覆盖该感测像素阵列与该接触垫；形成一第一平坦层于该保护层上；形成一彩色滤光层于该第一平坦层上，对应该感测像素阵列区域；形成一第二平坦层于该第一平坦层上，覆盖该彩色滤光层；定义一第一开口于该第二平坦层中，显露出该第一平坦层，该第一开口位于相对应该接触垫的位置；以及沿该第一开口干蚀刻该第一平坦层，以形成一第二开口于该第一平坦层与该保护层中，显露出该接触垫。
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