[发明专利]介质处理装置和使用该介质处理装置的介质签发装置无效
| 申请号： | 200410087943.9 | 申请日： | 2004-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1704975A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 北川岳志;桧山千里;后藤野果;江添江 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社;富士通先端科技株式会社 |
| 主分类号： | G07B3/02 | 分类号： | G07B3/02;G07B5/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑特强;经志强 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种介质处理装置，其使用了一种小型的并且带有共用元件的环形传送机构。在该环形传送机构中使用有一圆环和多个带传送机构。通过使用该传送机构来回传送介质，并使用一个单独的记录元件进行记录处理。同时，该环形传送机构被模块化地构造，并且达到了将该装置所需的传送与一输送机构模块相结合。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 处理 装置 使用 签发 | ||
【主权项】：
1.一种介质处理装置，用于来回传送介质，并在该介质上进行记录处理，包括：一不具有旋转支点的圆环；多个设置于该圆环圆周上的带传送机构；以及一设置于该圆环圆周上的记录元件，其中所述多个带传送机构支撑该圆环，并且驱动该圆环旋转，以使该介质通过被夹在所述带传送机构与该圆环之间而被来回传送。
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