[发明专利]盘片装置的读写头滑块无效

专利信息
申请号: 200410078050.8 申请日: 2004-09-20
公开(公告)号: CN1677506A 公开(公告)日: 2005-10-05
发明(设计)人: 洼寺裕之 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B5/60 分类号: G11B5/60
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种盘片装置的读写头滑块,该读写头滑块在旋转磁记录盘上方飞行并具有对气压的依赖性较小的特性。该盘片装置的读写头滑块包括:磁性元件,该磁性元件适于在磁记录介质上方飞行;与介质相对的表面,相对于介质运转的方向,该表面形成有位于上游端的流入垫部分和从该流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分,以及在所述读写头滑块的下游端位于中心部分处的中心垫和位于该中心垫的两侧并且在该中心垫的上游的一对侧垫。该中心垫和该多个侧垫被构造为使得由该多个侧垫产生的正压大于由该中心垫产生的正压。
搜索关键词: 盘片 装置 读写 头滑块
【主权项】:
1.一种盘片装置的读写头滑块,其包括:磁性元件,该磁性元件适于在盘状磁记录介质上方飞行以在该磁性元件和该磁记录介质之间记录或再生磁信息;所述读写头滑块的与所述介质相对的表面,相对于所述介质运转的方向,该表面形成有位于上游端的流入垫部分和从该流入垫部分向下游延伸的一对侧轨部分,以及在所述读写头滑块的下游端位于中心部分处的中心垫和位于该中心垫的两侧并且在该中心垫的上游的一对侧垫;并且所述中心垫和所述多个侧垫被构造为使得由所述多个侧垫产生的正压大于由所述中心垫产生的正压。
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