[发明专利]取向膜的形成方法、取向膜、电子器件用基板、液晶面板有效
申请号: | 200410074949.2 | 申请日: | 2004-09-01 |
公开(公告)号: | CN1591135A | 公开(公告)日: | 2005-03-09 |
发明(设计)人: | 太田英伸;远藤幸弘 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/133;G06F3/147;H04M1/02;H04N5/225 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明可以提供耐光性优良,而且能够产生偏转预倾角的取向膜,提供具备这样的取向膜的电子器件用基板、液晶面板和电子仪器,另外,提供这样的取向膜的形成方法。本发明的取向膜的形成方法,是在基体材料上形成取向膜,其特征在于,蒸发碳,同时在基体材料的形成取向膜的面上,只从相对于与该面垂直的方向倾斜所定的角度θ束。上述所定的角度θa是45~89°。含有氮离子的离子束的加速电压是100~500V。含有氮离子的离子束的电流是10~500mA。 | ||
搜索关键词: | 取向 形成 方法 电子器件 用基板 液晶面板 | ||
【主权项】:
1.一种取向膜的形成方法,在基体材料上形成取向膜,其特征在于,用蒸发源蒸发碳,同时在上述基体材料的形成上述取向膜的面上,只从相对于与该面垂直的方向倾斜所定的角度θa的方向照射含有氮离子的离子束。
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