[发明专利]玻化抛光地板砖清洗剂及其制备方法无效
| 申请号： | 200410073845.X | 申请日： | 2004-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1603393A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | 王清峰 | 申请（专利权）人： | 王清峰 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 467000河南省平顶山*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种玻化抛光地板砖清洗剂，该清洗剂包括：5－12％阴离子表面活性剂、4－12％非离子表面活性剂、1－5％强碱、2－10％脂肪酸、1－7％磷酸三钠、1－7％碳酸钠、10－30％石英粉、10－30％滑石粉、0.5－2％香精，余量为水。这种清洗剂不损害砖面亮度、不易燃、能快速彻底清除渗入到玻化抛光地板砖内部微细孔的各种污渍。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 地板砖 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种玻化抛光地板砖清洗剂，包括：5-12％阴离子表面活性剂、4-12％非离子表面活性剂、1-5％强碱、2-10％脂肪酸、1-7％磷酸三钠、1-7％碳酸钠、10-30％石英粉、10-30％滑石粉、0.5-2％香精，余量为水。
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