[发明专利]基底处理装置有效
| 申请号： | 200410071401.2 | 申请日： | 2004-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1573434A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 姜镐民;金珍洙 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02B1/10;C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 何秀明;李晓舒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供一种在水平方向传送基底并在该基底表面上供给处理溶液的基底处理装置，它包括：保持位于其下的基底的基底支持部件；用于供给处理溶液的喷射部件，该喷射部件位于基底的下面并与基底间隔分开；以及用于在水平方向上传送基底支持部件的传送部件。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在水平方向传送基底并向基底表面供给处理溶液的基底处理装置，包括：一保持位于其下的基底的基底支持部件；一用于供给处理溶液的喷射部件，喷射部件设置在基底下并与基底间隔开；和一用于在水平方向上传送基底支持部件的传送部件。
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