[发明专利]图案化的磁记录介质及其制造方法有效
| 申请号： | 200410071321.7 | 申请日： | 2004-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN1577509A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 南润宇 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开一种具有极度平坦化表面的图案化的磁记录介质及其制造方法。该介质包括：图案化层，包括设置成其间具有预定节距的多个磁柱和填充在图案化层的磁柱的间隙中的边界层；和支撑图案化层的衬底。于是，在磁性层上方产生因稳定气流形成的空气轴承，并且容易实现超高密度的磁记录/复制。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案化的磁记录介质，包括：图案化层，包括以预定节距设置的多个磁柱和填充在所述图案化层的所述磁柱的间隙中的边界层；以及衬底，其支撑所述图案化层。
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