[发明专利]溅射装置及形成薄膜的方法

摘要

本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中，在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域，面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a₁、35b₁等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a₁等)和修正小片(35b₁等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a₁和35b₁等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。

主权项

1.溅射装置，其是通过对安装在真空容器内部的板状靶进行溅射而在所述真空容器的内部公转的基板上形成薄膜的溅射装置；其特征为，其配有基板夹具和膜厚修正板，并配有修正板驱动装置；所述基板夹具夹持所述基板使所述基板公转，所述膜厚修正板设置在所述靶和所述基板之间，与所述靶相对，用来对形成的薄膜的厚度进行修正，所述膜厚修正板由第1修正板和第2修正板构成，所述第1修正板和所述第2修正板分别由沿所述基板公转轴方向接连设置的多个修正小片构成，构成所述第1修正板的修正小片和构成第2修正板的修正小片沿所述基板公转的轨迹在所述靶上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置，构成所述第1修正板的多个修正小片和构成所述第2修正板的多个修正小片沿所述投影轨迹方向由所述修正板驱动装置驱动。