[发明专利]光刻装置以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200410063115.1 | 申请日： | 2004-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1573573A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | K·D·范德马斯特;A·J·布里克;C·Q·古;J·C·G·霍纳格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻投射装置，包括以二维阵列方式产生多个源象的微透镜阵列，具有多个对源象起光阀作用的可寻址元件的可编程构图装置，和用于将源象阵列投射到基底上的投射子系统。由此获得更大的工作距离。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：-用于提供辐射投射光束的一个辐射系统；-可编程构图装置，包括多个可寻址元件并且能够依照一个所需图案进行设置；-保持一个基底的一个基底台；和-将所需图案转移到基底的一个靶部的一个投射系统；其特征在于所述投射系统包括：微透镜阵列，它具有对应于所述构图装置的可寻址元件的多个微透镜并用于形成源象阵列；和用于将所述源象阵列的像投射到所述基底上的一个投射子系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410063115.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：滑动支承件及其制造方法
- 下一篇：图像摄取装置
