[发明专利]电触点及其制造方法，用于真空断续器的电极，以及真空断路器有效
| 申请号： | 200410057837.6 | 申请日： | 2004-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1612275A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | 菊池茂;马场升;西岛阳;深井利真 | 申请（专利权）人： | 日本AE帕瓦株式会社 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张祖昌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种烧结而成的电触点，包含作为主要组分的重量比为15至30％的铬和作为余量的铜，0.05至0.5％的碲，100至3000ppm的氧，7.5至900ppm的铝，以及15至750ppm的硅。 | ||
| 搜索关键词： | 触点 及其 制造 方法 用于 真空 断续 电极 以及 断路器 | ||
【主权项】：
1.一种电触点，由一种烧结合金制成，该烧结合金包含重量比为0.05至0.5％的碲，100至3000ppm的氧，7.5至900ppm的铝，以及15至750ppm的硅，其中，主要组分是重量比为15至30％的铬和作为余量的铜。
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