[发明专利]一字排列式显影处理装置及显影处理方法

摘要

本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W)，在显影液供给部(2)中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部(4)中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部(6)中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部(8)。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部(4)的情况下，在其之前的待机部(3)中，使滚轮(10a)重复进行正反旋转，基板(W)往返移动。结果是，在基板(W)的背面，与滚轮(10a)接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。

主权项

1、一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游测设置次工序处理部，其特征在于，在所述显影液供给部和次工序处理部之间设置待机部，可以正反旋转构成该待机部的滚轮。