[发明专利]X射线相衬成像的方法和系统无效
| 申请号： | 200410053014.6 | 申请日： | 2004-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1725000A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 肖体乔;陈敏;徐洪杰;杜国浩 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | G01N23/083 | 分类号： | G01N23/083;G01N23/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线相衬成像的系统，依次包括产生硬X射线光源的X射线管，放置样品的扫描台和探测器，其特征在于该X射线管为光斑尺寸为0.5－5微米的纳聚焦管。本发明还提供一种X射线相衬成像的方法，其利用上述成像系统通过同轴轮廓成像方式将样品成像于该探测器上，其主要包括以下步骤：1)根据样品，调整该纳聚焦管产生的光源点与扫描台上的样品之间的距离d1，2)调整该样品与探测器之间的距离d2。本发明大大提高了X射线相衬成象的有效通量，从而降低曝光时间、提高信噪比；空间分辨率可达亚微米量级；可适应不同种类、不同尺寸的样品成象；从而可使普通实验室进行生物软组织、低Z材料样品内部结构的无损成像研究。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种X射线相衬成像的方法，其利用依次包括产生硬X射线光源的X射线管，放置样品的扫描台和探测器的成像系统，其特征在于其选择光斑尺寸为0.5-5微米的纳聚焦管来产生X射线光源，所述X射线通过同轴轮廓成像方式将样品成像于该探测器上。
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