[发明专利]具有改善的边缘场的多头屏蔽梯度线圈无效
| 申请号： | 200410049098.6 | 申请日： | 2004-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1572245A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托弗·J·埃文斯 | 申请（专利权）人： | GE医药系统环球科技公司 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/20;G01R33/385;H01F5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 黄小临;王志森 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种成像系统(2)，包括初级梯度线圈组件(52)和屏蔽线圈组件(42)。所述屏蔽线圈组件(42)与所述初级梯度线圈组件(52)串联。所述屏蔽线圈组件(42)包括第一梯度屏蔽线圈(82)和第二梯度屏蔽线圈(84)。所述第二梯度屏蔽线圈(84)与所述第一梯度屏蔽线圈(82)并联。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改善 边缘 多头 屏蔽 梯度 线圈 | ||
【主权项】：
1.一种成像系统(2)，包括：初级梯度线圈组件(52)；和屏蔽线圈组件(42)，串联到所述初级梯度线圈组件(52)，所述屏蔽线圈组件(42)包括：第一梯度屏蔽线圈(82)；和并联连接到所述第一梯度屏蔽线圈(82)的第二梯度屏蔽线圈(84)。
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