[发明专利]曝光装置的曝光方法无效
| 申请号： | 200410048823.8 | 申请日： | 2004-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1573569A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 屋木康彦;薮慎太郎;氏益稔 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置的曝光方法，能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准，并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准，在掩模密合于基板的状态下进行曝光，包括：以掩模标记为基础，求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤；以校准标记为基础，求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤；对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤；通过比较步骤，判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤；以及在判断步骤判断在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置的曝光方法，对基板与掩模进行校准，在将上述掩模密合于上述基板的状态下进行曝光，其中，上述基板具有多个定位用的校准标记，上述掩模具有用来与上述校准标记对准位置的掩模标记并设有规定图案，该曝光方法的特征在于，包括下列步骤：以上述掩模标记为基础，求出上述掩模的一半区域的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、以及上述掩模整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MB的步骤；以上述校准标记为基础，求出上述基板的一半区域的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、以及上述基板整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WB的步骤；对上述掩模标记的分配点MB与上述校准标记的分配点WB进行比较的比较步骤；根据上述比较步骤，判断上述校准标记的分配点WB相对于上述掩模标记的分配点MB是否在容许范围内的判断步骤；以及在上述判断步骤判断出在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。
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