[发明专利]投影曝光装置无效
| 申请号： | 200410043377.1 | 申请日： | 2004-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1550876A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | 石川弘美;西畑纯弘 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03B27/32 | 分类号： | G03B27/32;G02F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在像侧远心的第一成像光学系统(51)和第二成像光学系统(52)的任意一个中，准备在其间夹着入射光瞳位置而相邻的两个光瞳相邻透镜中的至少一方透镜的透镜面中的至少一方做成非球面的成像光学系统(50)，将从光源部件(60)发出的光束用DMD(80)进行空间光调制，由该DMD(80)进行空间光调制的2维图案通过所述成像光学系统(50)，成像在感光材料(150)上。在投影曝光装置中，当将调制的光的2维图案投影时，抑制失真，提高MFT性能，并且提高从光源发出的光的利用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1、一种投影曝光装置，具有对从光源发出的光进行空间光调制的空间光调制部件，和使由空间光调制部件进行了空间光调制的2维图案在感光材料上成像的像侧远心的成像光学系统，并将该2维图案投影到所述感光材料上，将该2维图案在所述感光材料上曝光，其特征在于：将所述成像光学系统的入射光瞳位置夹在其间而相邻的两个光瞳相邻透镜中的至少一方的透镜，使该透镜的透镜面中的至少一方为非球面。
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