[发明专利]研磨垫及其制造方法有效
| 申请号： | 200410042969.1 | 申请日： | 2004-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1706594A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 施文昌;张永忠;朱明癸 | 申请（专利权）人： | 智胜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种研磨垫及其制造方法。该研磨垫，具有一研磨面、一背面以及一与此研磨面及背面连接的侧壁，且此研磨垫具有中心区与研磨区，其中研磨面的中心区处在研磨过程中会受应力挤压而突起，因而在中心区内是设计有至少一缓冲应力图案。此缓冲应力图案是可缓冲研磨垫的中心区在研磨制程中所承受的应力，以避免中心区受应力挤压而突起，进而防止晶圆载具与此突起部位摩擦，而产生的碎屑污染晶圆。此外，在研磨垫的侧壁上是设计至少一弧面，以避免在研磨过程中晶圆载具会与此侧壁摩擦，而产生的碎屑污染晶圆。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种研磨垫，该研磨垫具有一研磨面、一背面以及一与该研磨面及该背面连接的侧壁，且该研磨垫具有一研磨区以及一中心区，其特征在于：在该研磨垫的该中心区是配置有一缓冲应力图案，以缓冲在研磨过程中该研磨面的该中心区处所受到的应力。
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