[发明专利]带有磁电管和目标物的溅射设备有效

专利信息
申请号: 200410036852.2 申请日: 2004-04-16
公开(公告)号: CN1657646A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: 安德烈亚斯·勒普;安德烈亚斯·伊什科;迈克尔·盖斯勒;赫伯特·法伊弗;约尔格·克伦佩尔-埃塞 申请(专利权)人: 应用薄膜有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陆弋;钟强
地址: 联邦德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及带有磁电管和目标物的溅射设备,其中磁电管和目标物之间可以相对移动。磁电管包括磁体系统,它形成准矩形等离子管,该等离子管的两个长边之间距离为C。如果目标物和磁体系统的相对移动路程对应于距离C,则布置磁体系统使得等离子管的末端宽度小于或等于等离子管的直径。不过,如果相对移动的路程小于C,则布置磁体系统使得等离子管的末端宽度d小于或等于等离子管的直径的两倍。
搜索关键词: 带有 磁电 目标 溅射 设备
【主权项】:
1.一种带有磁电管和目标物的溅射设备,其中磁电管和目标物之间可以相对移动,并且磁电管包括磁体系统,磁体系统具有至少一个内部磁体和包围着它的至少一个外部磁体,并且其中磁体系统在内部磁体和外部磁体之间形成至少一个封闭的等离子管,该等离子管包括两个区域,它们之间的距离为C,该等离子管基本上垂直延伸到磁电管相对于衬底的移动方向,并且该等离子管具有直径d,其特征在于,在目标物(2)和磁体系统(1)之间的相对移动路程约等于C时,布置磁体系统(1),使得等离子管(9)的末端宽度B满足条件B≤d。
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